我的一九八五第一八二五章 尼康45nm干式光刻机横空出世

6月2日上午孙健在办公室从PN（鲲鹏网）首页上看到一则一百多字的新闻（转载GPN）：尼康45nm干式光刻机横空出世！立马引起了他的眼球尼康公司今日公开宣布尼康公司同SELETE合作在65nm制程工艺干式光刻机NSR-S308F的基础上经过一年多的努力研制成功45nm干式光刻机DSP-100；同时宣布尼康公司将联合SELETE、尔必达、东芝、富士通公司投资2350亿日元（相当于20亿美元）在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。

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半导体前沿技术公司研发协会（SELETE）是1996年3月由富士通、日立、松下、三菱电机、NEC、冲电气、三洋电机、夏普、索尼、东芝、尼康和佳能等13家半导体公司每家出资5亿日元成立的半导体技术共同开发公司。

美国成立SEMATECH致使日本失去半导体行业第一的位置后成立SELETE是日本半导体产业界为了重回全球第一所做的尝试组织采用分层组织结构领头推动整个研发进展领导三大前沿技术的研发：前端工艺后端工艺用于65nm和45nm制程工艺的光刻和掩模工艺。

尔必达（ELPIDA）如今是日本唯一一家动态随机存取存储器（DRAM）生产企业1999年由日立、NEC和三菱电机的DRAM业务整合成立2004年在东京证券交易所主板上市。

其DRAM业务占据全球市场份额第三主要供应戴尔、索尼等PC厂商。

前世没有听说过尼康45nm干式光刻机！ 全球光刻机的历史进程已经改变！ 孙健不仅不担心反而眼前一亮BSEC雪藏了一年多的45nm制程的浸润式光刻机TWINSCAN NXT:3360i终于可以光明正大的面世了。

打电话让魏建国了解详细情况？ “董事长邓院长说尼康DSP-100干式光刻机虽然采用尼康公司自研的157nm波长激光器但配备尼康公司自研的Polano偏振照明系统后能够满足45nm制程的光刻需求但同我们的3360i相比他们有两个短时间很难解决的缺陷一是氟化钙镜头的良品率低价格昂贵导致DSP-100的市场价定价会比我们贵50%左右；二是如今没有同45nm制程干式光刻机相匹配的磁悬浮式双工作台系统工作效率会低15%左右。

虽然尼康公司占据先发优势但一旦3360i公布于众英特尔和AMD都不会购买DSP-100。

” 魏建国从邓国辉那里得到准确的消息后向孙健汇报话语中透着轻松和自信他们也不担心。

BSEC光刻机研究院从去年4月就已经开始研发32nm制程的浸润式光刻机今年3月就生产出了试验样机。

去年7月18日全球第一条65nm半导体生产线在PGCA量产的消息传到尼康公司上下震动很大虽然尼康研发成功的65nm制程的干式光刻机NSR-S308F随时可以量产由于各方面的原因当时没有国际晶圆厂家愿意订购力推157nm波长干式光刻机发展方向的顾问吉田一郎召集公司高管商议对策。

现任会长森佳照明坚持沿着既定的技术路线稳步推进只要能率先研发成功45nm制程干式光刻机才能一举扭转被动局面就能继续引领全球光刻机的发展方向； 研究所所长兼副总裁小川郁子和财务副总裁兰布林支持森佳照明的决定。

副总裁诺利克建议公司放弃干式光刻机路线投资研发浸润式光刻机。

常务副总裁原田弘树建议公司两条腿走路。

吉田一郎支持森佳照明等人的意见抓紧时间研发45nm制程干式光刻机。

去年5月Nikon研制的NSR-S308F干式光刻机量产配备尼康公司自研的Polano偏振照明系统后能够满足65nm制程的光刻需求。

SELETE购买了2台。

“魏总等DSP-100在市场上发酵一周后我们再向外公布3360i7月下旬量产开始预订。

” 按照浸润理论采用浸润式技术193nm波长可以穿透纯净水最高实现22nm的精度浸润式技术还可以获得更好的景深。

不需要真空或氮气条件不需要更换掩膜不需要更换光刻胶。

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